<kbd id="7zgzx"><nav id="7zgzx"></nav></kbd>
<option id="7zgzx"><strong id="7zgzx"></strong></option>
<noframes id="7zgzx"><del id="7zgzx"></del></noframes>
  • <option id="7zgzx"></option>
    <noframes id="7zgzx"></noframes>
    <del id="7zgzx"></del>
  • 萊特萊德·水處理
    萊特萊德·超純水設備 專業PPT級電子級超純水服務商
    全國解決方案定制熱線

    專注EDI超純水設備研發生產
    聯系我們 Contact
    當前位置:主頁 > 芯片電子行業超純水 >
    半導體超純水設備—EDI超純水處理系統

    半導體超純水設備—EDI超純水處理系統

      我國電子工業電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)

      半導體超純水設備用途

      半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區分不同水質。

      半導體(semiconductor),指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多,按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體;化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:砷化鎵、磷化鎵等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化鎘、硫化鋅等;氧化物:錳、鉻、鐵、銅的氧化物,以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體:鎵鋁砷、鎵砷磷等。除上述晶態半導體外,還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。

      半導體超純水設備制備工藝

      1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)

      2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(新工藝)

      3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(新工藝)

      4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(新工藝)

      5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)

      水質標準

      半導體超純水設備,超純水設備,超純水處理設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。

      半導體超純水設備的應用領域

      電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗;

      電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水;

      黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水;

      生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液;

      晶體管生產中純水主要用于清洗硅片;

      集成電路生產中高純水清洗硅片;

      半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水;

      半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗;

      高品質顯像管、螢光粉生產;

      汽車、家電表面拋光處理。

      萊特萊德的光電材料生產、加工、清洗;液晶顯示屏、離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

    彩神8彩神V